金實力公司解析研磨拋光中常見拋光皮的種類，在實際研磨拋光過程中，研磨拋光主要講的是化學機械拋光。CMP 是化學的和機械的綜合作用,在一定壓力及拋光漿料存在下,在拋光液中的腐蝕介質作用下工件表面形成一層軟化層，拋光液中的磨粒對工件上的軟化層進行磨削，因而在被研磨的工件表面形成光潔表面。
研磨拋光作用的機理：
拋光液中的腐蝕介質與被拋光表面材料發生了化學反應,從而露出新的表面,接著又繼續反應生成新的反應膜,如此周而復始的進行,使表面逐漸被拋光修平,實現拋光的目的。
拋光皮的分類：
根據拋光皮磨料填充、材質、表面結構情況，共分為三大類
按磨料填充分為：無填充磨料和有填充磨料拋光皮
無填充磨料的拋光皮，在拋光過程中的相比較拋光工件光圈穩定。
有填充磨料的拋光皮：含氧化鈰拋光皮和含氧化鋯拋光皮
氧化鈰拋光皮：較能提高拋光速率
氧化鋯拋光皮：較能提高被拋光工件的光潔度
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